半导体制造手套箱温湿度控制案例

发布时间:2023-08-21 分类:客户案例 浏览量:36

在半导体制造手套箱中的应用实例

光刻工艺中的关键作用

光刻是半导体制造的核心工艺之一,对温湿度要求极为苛刻。恒歌温湿度变送器被精准地安装在手套箱的光刻区域。在曝光过程中,它实时监测温度和湿度的变化。当手套箱内温度有升高趋势接近 23.5℃(设定上限为 23℃±0.5℃)时,变送器迅速将信号传送给控制系统,控制系统立即启动冷却装置,调整手套箱内的温度回到最佳范围。

同时,对于湿度的监测也毫不松懈,一旦湿度超出 33% RH(设定范围为 30% RH±3% RH),除湿设备马上工作,确保光刻胶在稳定的温湿度环境下进行曝光,从而保证芯片的光刻图案精准清晰,有效提高了芯片的良品率和性能一致性。

化学气相沉积(CVD)工艺的得力助手

在化学气相沉积工艺中,反应气体在特定的温湿度条件下在硅片表面沉积形成薄膜。恒歌温湿度变送器在手套箱内全程监控环境参数。例如在制备高质量的氮化硅薄膜时,需要精确控制手套箱内的温度在 350℃左右,湿度低于 10% RH。

恒歌温湿度变送器稳定地测量并反馈温湿度数据,当温度或湿度出现偏差时,控制系统根据变送器提供的信息精准调节加热、冷却和除湿设备,保证反应气体能够在理想的环境中均匀地沉积在硅片表面,形成厚度均匀、性能优异的薄膜层,为后续的芯片制造工序奠定坚实基础。

芯片封装环节的品质保障

芯片封装过程中,防止水汽和杂质的侵入是关键。恒歌温湿度变送器在手套箱内时刻警惕温湿度的变化。在封装车间的手套箱中,它将温湿度数据实时传输给控制系统,确保手套箱内的湿度始终维持在极低水平,如 5% RH 以下。

一旦湿度有上升迹象,除湿系统迅速响应,有效避免了芯片在封装过程中因水汽而导致的氧化、短路等问题,保障了芯片的封装质量和可靠性,提高了产品在市场上的竞争力。

与手套箱控制系统的完美集成

恒歌温湿度变送器与半导体制造手套箱的控制系统实现了无缝对接。它通过标准的 RS485 Modbus-RTU 通信协议,将采集到的温湿度数据快速、准确地传输给控制系统。

控制系统根据预设的温湿度范围和控制策略,如采用先进的 PID 控制算法,对加热、冷却、除湿和加湿设备进行智能调控。

这种紧密的集成不仅实现了温湿度的自动化控制,还能够对整个手套箱的环境状态进行实时监控和预警。当温湿度出现异常波动或偏离设定值达到一定程度时,系统会立即发出警报通知相关人员,确保问题能够得到及时处理,最大程度减少因环境因素导致的生产事故和产品质量问题。

恒歌温湿度变送器以其卓越的性能、广泛的适用性和可靠的稳定性,成为半导体制造手套箱温湿度控制的理想选择。它在保障半导体制造工艺环境的稳定性、提高产品质量和生产效率等方面发挥着不可替代的重要作用,助力半导体产业在微观世界里不断探索创新,迈向更高的技术巅峰。

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